课题组参加2020国际先进光刻技术研讨会

浏览:1329  发布人:管理员  发布日期:2020-11-15
课题组参加2020国际先进光刻技术研讨会
 
 
   2020年11月5日至6日,第四届国际先进光刻技术研讨会(International Workshop on Advanced Patterning Solutions)在四川成都举办,何向明老师带领课题组光刻胶团队师生共11人参会。这是课题组第一次参加半导体光刻技术会议,课题组首次出现在光刻胶领域。
   近年来,中国集成电路产业蓬勃发展,基于这样的形势,国际先进光刻技术研讨会(International Workshop on Advanced Patterning Solutions,IWAPS)应运而生。自2017以来,IWAPS已经举办三届,该会议为来自国内外半导体工业界、学术界的资深技术专家和优秀研究人员等提供了一个技术交流平台。作为国内专注于高端光刻技术的研讨会,其发言者多为特邀自光刻及其相关领域的国内外资深专家,代表了其所在领域的国际先进水平。报告内容涉及广泛,涵盖了当前的技术现状、未来的发展趋势以及面临的挑战等。该研讨会旨在为与会者提供一个深入讨论的互动平台,也为想要了解更多国内外半导体业界动态的研究者和工程师提供更多机会。
 
 
    会议中,我课题组与国内外光刻领域的学术、产业同行积极交流,共同讨论光刻技术的研究进展与课题组发展方向。本次会议中,我课题组受邀参加研究成果海报展示会议环节,课题组的光刻胶研究成果收到来自会务组、学界和产业界同行的极大关注,并取得该会议评出的“最佳成果海报奖(Best Poster Award)”,这是会议唯一的一个奖项,同学们非常高兴。
 
徐宏老师讲解工作
 
获奖海报
 
大会主席为课题组代表博士生陶佩佩颁奖
 
    11月6日,会议间期,何向明老师带领课题组光刻胶团队赴富士康业成集团(成都)调研,实地参观了解先进显示面板的制造、集成、产业链与未来发展方向,并与集团领导就产学结合等议题展开讨论。
    11月6日晚,会议正式落幕,课题组本次参会圆满完成
 
会议交流晚宴
 
会议结束后课题组合影
 
王奕艨,胡子昱撰稿。  2020年11月15日

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